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摘要:
玻璃基板TGV产业化加速,后摩尔时代封装材料迎来变革窗口,量产落地依旧面临多重现实障碍

随着 AI 大算力芯片对于互连带宽、散热性能的要求不断提升,传统有机封装基板已经来到物理性能天花板,玻璃通孔(TGV)玻璃基板被全球产业公认为下一代异构集成核心材料,2026 年全球各大厂商加速样品验证、产线建设与材料联合研发,行业来到产业化前夜,但距离大规模商用还有不少技术难题亟待攻克电子工程专...。
对比传统有机基板,玻璃基板具备热膨胀系数低、高温不易翘曲变形、高频信号损耗更低、互连密度更高等显著优势,可以支撑超大尺寸 Chiplet 集群、HBM 高密度堆叠,适配 CPO 光电共封装的发展需求。三星电机近期和本土材料企业深化合作,覆盖蚀刻、镀铜、化学机械抛光全套关键工艺,计划 2027 年实现玻璃基板量产;英特尔已经完成玻璃基板处理器样品验证,下一代服务器处理器规划导入该技术;英伟达新一代 Rubin 架构 GPU,也规划采用玻璃中介层方案;台积电推进 CoPoS 面板级玻璃封装试验线,开展多轮工艺验证。
国内产业链同样快速跟进。蓝思科技和英特尔签署合作备忘录,完成激光打孔、化学蚀刻、镀膜电镀完整自研工艺链条,已经向海外头部客户送样开展联合验证;沃格光电建成 TGV 中试产线;京东方、彩虹股份持续完善玻璃原片配方与加工工艺。康宁两项核心玻璃原片专利将于 2026 年 10 月到期,长期的配方专利壁垒逐步消解,但窑炉控制、退火工艺、良率管控等实践经验,并不会随着专利到期直接转移,依旧构成很高的产业化门槛新湖南。
热闹的产业布局背后,产业化痛点同样突出。电镀填铜的均匀一致性仍是行业共性难题,微米级通孔内部金属填充瑕疵会直接造成芯片信号故障;整套行业统一技术标准尚未建立,不同厂商产出的玻璃基板规格差异较大,给晶圆厂、封测厂适配带来巨大成本;完整供应链链条很长,玻璃原片、激光打孔、湿法蚀刻、金属化、检测测试分布在不同企业,协同难度高。
行业普遍预期,2026‑2027 年会迎来小批量样品落地,主要用于高端 AI 芯片原型与小规模验证,真正大规模渗透预计落在 2028‑2030 年。玻璃基板不会立刻全面替代有机基板,二者会长期共存:高端大算力芯片优先使用玻璃基板,海量通用芯片继续沿用成熟有机基板方案。对于国内产业链,当前正是重要窗口期,但需要理性看待技术进度,产业化不是单点技术突破,而是设备、材料、工艺、标准全链条共同成熟的漫长过程36氪。
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